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日本三井化学以尖端技术领先光罩用软薄膜

日本三井化学以尖端技术领先光罩用软薄膜兵靴

2002年05月31日

国化学工业(日本)报道:日编码器本三井化学在光罩用软薄膜事业上,今后将正式

进行氟二聚物(F2)excimerlaser用软薄膜的开发。

该公司10几年前是日本国内光罩用薄膜的大企业之一,目前主要产品是氟化氪(KrF)

excimer laser用的软薄膜,针对氟化氩((1)面板显示功能ArF)excimer laser用的软薄膜已大致完成

开发,今后要正式推出Ar--驱动系统F用产品。在软薄膜冷却机中亦将重点放在最尖端产品,采取确保

利益美式插座策略,将致力开发需求强烈的F2用,以继续维持领先地位。三井化学欢迎来电咨询业务是日本软薄

膜事业的领先企业,持有将近20年历史,在日本国内的市场占有率是整个软薄膜将近

50%,KrF用和ArF用则约70%。

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